工艺技术

当前位置:
首页
/
/
光催化氧化
资讯分类

光催化氧化

  • 分类:工艺技术
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2020-06-04 22:44
  • 访问量:

【概要描述】等离子发生器放电过程中,电子从电场中获得能量,通过碰撞将能量转化为污染物分子的内能或动能,这些获得能量的分子被激发或发生电离形成活性基团,同时空气中的氧气和水分在高能电子的作用下也可产生大量的新生态氢、臭氧和羟基氧等活性基团,这些活性基团相互碰撞后便引发了一系列复杂的物理、化学反应。

光催化氧化

【概要描述】等离子发生器放电过程中,电子从电场中获得能量,通过碰撞将能量转化为污染物分子的内能或动能,这些获得能量的分子被激发或发生电离形成活性基团,同时空气中的氧气和水分在高能电子的作用下也可产生大量的新生态氢、臭氧和羟基氧等活性基团,这些活性基团相互碰撞后便引发了一系列复杂的物理、化学反应。

  • 分类:工艺技术
  • 发布时间:2020-06-04 22:44
  • 访问量:
详情

 UV光离子技术

  一、技术原理

  等离子体净化区:

等离子发生器放电过程中,电子从电场中获得能量,通过碰撞将能量转化为污染物分子的内能或动能,这些获得能量的分子被激发或发生电离形成活性基团,同时空气中的氧气和水分在高能电子的作用下也可产生大量的新生态氢、臭氧和羟基氧等活性基团,这些活性基团相互碰撞后便引发了一系列复杂的物理、化学反应。从等离子体的活性基团组成可以看出,等离子体内部富含极高化学活性的粒子,如电子、离子、自由基和激发态分子等。废气中的污染物质与这些具有较高能量的活性基团发生反应,最终转化为CO2和H2O等物质,从而达到净化废气的目的。

等离子体化学反应过程大致如下:

(1) 电场 + 电子 → 高能电子

(2) 高能电子 + 污染物 → 受激原子/受激基团/游离基团(活性基团)

(3) 活性基团 + 氧气 → 生成物 + 热

(4) 活性基团 + 活性基团 → 生成物 + 热

从以上反应过程可以看出,电子先从电场获得能量,通过激发或电离将能量转移到污染物分子中去,那些获得能量的污染物分子被激发,同时有部分分子被电离,从而成为活性基团。然后这些活性基团与氧气、活性基团与活性基团之间相互碰撞后生成稳定产物和热。

  原理图:

111

  二、技术特点

  1、优势互补:集UV光解与低温等离子体技术的优点于一体,两种技术相互协助,共同作用,处理效率更高。

  2、高效除臭:一次性净化效率高,能同时净化多种污染物,无需添加任何物质,无二次污染。

  3、操作方便:模块化设计,便于取出检修和清理。

  4、优质进口材料制造:防火、防腐蚀性能高,设备性能安全稳定,采用不锈钢材质,设备使用寿命在十五年以上。

  三、适用范围

  由于该工艺净化效率高,可以净化大部分废气,主要用于喷漆车间、油墨印刷、喷涂车间、化工、医药、橡胶、食品、印染、酿造、造纸、炼油厂、污水处理厂、垃圾转运站等产生的有毒有害恶臭气体处理。

 

 

UV光解技术

   UV光解净化设备采用特制紫外灯管在处理装置内产生185nm波段紫外线,在紫外线的照射下,废气分子键断裂,形成游离状态的单分子。同时,空气中的氧分子在高能UV紫外线光束的作用下产生游离氧,即活性氧,因游离氧不稳定需要与氧分子结合,进而产生臭氧,由于臭氧对有机物具有极强的氧化作用,使游离状态的有机物单分子被臭氧氧化形成无害或低害的小分子化合物,如CO2、H2O等,净化后的气体达标排放。

   1、紫外线是由电磁波组成,其本身所带有的能量与波长直接关系,波长越短,能量越大。本产品采用特制的高能高臭氧UV光束(波长范围170~184.9nm),照射恶臭气体及有机气体(如氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOCs类,苯、甲苯、二甲苯),当这些气体吸收了这类紫外线光后,紫外线光本身带有的能量,使有机气体或恶臭气体分子内部发生裂解,化学键断裂,形成游离状态的原子或基团。

   2、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧不稳定需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+·O (活性氧)·O+O2→O3(臭氧)。同时,混合气体中的水气被紫外线光裂解产生羟基(UV +H2O→H + -OH(羟基) ),众所周知,这些生成的臭氧和羟基对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。

   3、净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行分解氧化反应,使恶臭气体物质被降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳。

   4、利用高能UV光束破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。

UV光解设备处理H2S反应图

UV光解设备处理NH3反应图

UV光解设备处理硫醇分子反应图

 

 

 

联系方式

电话

全国 188 2740 8357

山东 150 7102 7103

e-Mail: ranmengxi@whsthb.com
武汉地址:武汉市东湖高新技术开发区高新四路27号
山东地址:济南区高新区同科大厦1号楼503室